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“碳化硅磨抛盘、研磨耗材、金属背底磨抛盘、精铸磨抛耗材、金相盘”参数说明
| 是否有现货： | 是 | 适用行业： | 金属加工、石材加工、陶瓷加工、玻璃深加工 |
| 工艺： | 表面是一压模成型的成蜂窝状结构的磨削层。 | 材质： | 碳化硅 |
| 加工定制： | 是 | 品牌： | 精铸 |
| 适用范围： | 各行业的研磨抛光 | 规格： | ф200mm - ф350mm |
| 商标： | 精铸 | 包装： | 1片/包 |
| 产品品牌： | 精铸 | 产品包装： | 1片/包 |
| 外形尺寸： | ф200mm、ф220mm、ф230mm、ф250mm、ф300mm和ф350mm六种 | 产量： | 10000 |
“碳化硅磨抛盘、研磨耗材、金属背底磨抛盘、精铸磨抛耗材、金相盘”详细介绍
研磨是金相制样和机械研磨非常关键的一步。合适的研磨能够去除材料表面的损伤和变形，同时尽量不引入新变形，以方便后续抛光步骤。研磨过程的控制以及耗材的合理选用决定性的影响着研磨效果。
为满足市场对不同材质、不同硬度试样的研磨抛光，欣辉导入国外同行先进技术再借助国内高等院校材料方面的研发实力，进口优质的半成品在国内开发出不同型号的金刚石磨抛盘、氧化铝磨抛盘、氧化铈磨抛盘、氧化铬磨抛盘、碳化硅磨抛盘和氧化硅磨抛盘。
各种材质的磨抛盘与常规磨料（粉体、膏体、液体）对比的优势如下：
磨料储存在高分子磨料层中，磨料层与磨抛界面发生接触时，磨料立即发生功效，非接触时永远处于待工作状态，这样就保证了磨料的消耗和供给是基于磨抛界面的实际需要，同时避免了磨料的损耗。而其他常规的磨料是额外添加的，添加的磨料只有少部分会进入到真正的磨抛界面中，大部分都会随着磨盘的运转而被甩掉（浪费）。
磨抛盘提供的磨料能维持始终如一的功效，而其他常规的磨料的功效集中在添加完这一刻，随后在再次添加之前，磨料的功效是直线下降的。
同材质磨抛盘的综合使用成本的性价比其他的磨料更实惠。
集抛光布、抛光垫和磨料的功能于一体，使用过程中，无需再使用抛光布、抛光垫。
碳化硅磨抛盘的特性如下:
1.独特的磨料层蜂窝状结构加微孔设计保证了磨抛的高效、表面的平整和结果的一致性。
2.表面是一压模成型的成蜂窝状结构的磨削层。磨削层材料是由特殊树脂与不同粒径的碳化硅微粉按一定比例混合而成。直接加水即可进行研磨抛光加工，不需要额外添加碳化硅悬浮液。
3.碳化硅磨抛盘首次使用前用磨石开刃，磨抛盘后续的切削力具有可再生性。每使用20-30min，用专配磨石对磨抛盘表层进行修整（随货佩送），磨抛盘磨削能力就会恢复如初。磨石的作用包括恢复磨抛盘的切削力和修复磨抛盘的平整度。
4.依据现有碳化硅微粉的粒径分为240um(P60#)、188um(P80#)、127um(P120#)、78um(P180#)、46um(P320#)、26um(P600#)、15um(P1200#)、9.0um(P2000#)、6.0um(P2400#)、3.0um(P4000#)、0.5um(P7000#) 11种，每种粒径的磨抛盘的背面有对应的目数来识别。其他粒径要求的磨抛盘可以定制。
5.依据磨抛盘的外径有ф200mm、ф220mm、ф230mm、ф250mm、ф300mm和ф350mm六种，其他外径要求的磨抛盘可以定制。
6.碳化硅磨抛盘广泛应用于：
非金属材料行业：太阳能硅片、半导体硅片、石英芯片、玉器宝石、光学玻璃、工艺品、水晶、石材、玛瑙及高级珠宝玉器等材料的研磨抛光；
金属材料行业：特殊钢、硬质合金和硬脆金属，如铜、黄铜、铝和镁等有色金属的精密抛光。
为满足市场对不同材质、不同硬度试样的研磨抛光，欣辉导入国外同行先进技术再借助国内高等院校材料方面的研发实力，进口优质的半成品在国内开发出不同型号的金刚石磨抛盘、氧化铝磨抛盘、氧化铈磨抛盘、氧化铬磨抛盘、碳化硅磨抛盘和氧化硅磨抛盘。
各种材质的磨抛盘与常规磨料（粉体、膏体、液体）对比的优势如下：
磨料储存在高分子磨料层中，磨料层与磨抛界面发生接触时，磨料立即发生功效，非接触时永远处于待工作状态，这样就保证了磨料的消耗和供给是基于磨抛界面的实际需要，同时避免了磨料的损耗。而其他常规的磨料是额外添加的，添加的磨料只有少部分会进入到真正的磨抛界面中，大部分都会随着磨盘的运转而被甩掉（浪费）。
磨抛盘提供的磨料能维持始终如一的功效，而其他常规的磨料的功效集中在添加完这一刻，随后在再次添加之前，磨料的功效是直线下降的。
同材质磨抛盘的综合使用成本的性价比其他的磨料更实惠。
集抛光布、抛光垫和磨料的功能于一体，使用过程中，无需再使用抛光布、抛光垫。
碳化硅磨抛盘的特性如下:
1.独特的磨料层蜂窝状结构加微孔设计保证了磨抛的高效、表面的平整和结果的一致性。
2.表面是一压模成型的成蜂窝状结构的磨削层。磨削层材料是由特殊树脂与不同粒径的碳化硅微粉按一定比例混合而成。直接加水即可进行研磨抛光加工，不需要额外添加碳化硅悬浮液。
3.碳化硅磨抛盘首次使用前用磨石开刃，磨抛盘后续的切削力具有可再生性。每使用20-30min，用专配磨石对磨抛盘表层进行修整（随货佩送），磨抛盘磨削能力就会恢复如初。磨石的作用包括恢复磨抛盘的切削力和修复磨抛盘的平整度。
4.依据现有碳化硅微粉的粒径分为240um(P60#)、188um(P80#)、127um(P120#)、78um(P180#)、46um(P320#)、26um(P600#)、15um(P1200#)、9.0um(P2000#)、6.0um(P2400#)、3.0um(P4000#)、0.5um(P7000#) 11种，每种粒径的磨抛盘的背面有对应的目数来识别。其他粒径要求的磨抛盘可以定制。
5.依据磨抛盘的外径有ф200mm、ф220mm、ф230mm、ф250mm、ф300mm和ф350mm六种，其他外径要求的磨抛盘可以定制。
6.碳化硅磨抛盘广泛应用于：
非金属材料行业：太阳能硅片、半导体硅片、石英芯片、玉器宝石、光学玻璃、工艺品、水晶、石材、玛瑙及高级珠宝玉器等材料的研磨抛光；
金属材料行业：特殊钢、硬质合金和硬脆金属，如铜、黄铜、铝和镁等有色金属的精密抛光。
