GIK小型等离子清洗机 台式蚀刻机系统 进口小型纳米级紧凑型

种类：	电解	控制方式：	自动
作用对象：	玻璃	类型：	双面
工作频率：	13.56MHz	尺寸：	12.3英寸（312毫米）高x 30英寸（762毫米）宽x 12.4英寸（315毫米）深
产量：	量产

GPC-102 A （替代 Harrick PDC-32G-2及PDC-FMG-2 PlasmaFlo、EQ-PDC-32G等离子清洗机）是一款台式紧凑型等离子清洗机，具有体积仅为台式烤箱大小、非破坏性的纳米级清洗的特点，是一款特别适合实验室、超净间及研发机构的理想等离子清洗设备。等离子清洗机采用工艺气体如大气、氩气、氮气、氧气或氦气等作为清洗气体介质，有效避免了因液体清洗剂对被清洗物带来的残留物污染及排放污染。GPC-102 A等离子清洗机配套一台真空泵，工作时真空清洗舱内中的等离子体与被清洗物的表面产生物理及化学反应，短暂的清洗就可以使有机污染物被彻底地清除，同时污染物被真空泵抽走，其清洗程度达到纳米级。GPC-102 A等离子清洗机除了具有纳米级清洗功能外，在特定条件下还可根据需要改变某些材料表面的性能，等离子体作用于材料表面，使表面分子的化学键发生重组，形成新的表面特性，而不改变材料的主要性能。对某些特殊用途的材料，在纳米级清洗过程中GPC-102 A等离子清洗机的辉光放电不但加强了这些材料的粘附性、相容性和浸润性， 并可消毒和杀菌，而无需考虑使用化学试剂如EtOH的排放和回收。

GPC-102 A等离子清洗机应用领域：
  清洗光学器件、电子元件、半导体元件、激光器件、镀膜基片、终端安装等的超清洗。
  清洗电子元件、光学器件、激光器件、镀膜基片、芯片、移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质。
  清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片。
  移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质，去除金属材料表面的氧化物。
  清洗半导体元件、印刷线路板、ATR元件、各种形状的人工晶体、天然晶体和宝石。
  清洗生物芯片、微流控芯片、沉积凝胶的基片。
  高分子材料表面的修饰。
  封装领域中的清洗和改性，增强其粘附性，适用于直接封装及粘和。
  改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的粘和力。
  涂覆镀膜领域中对玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面的改性，使其活化，增强表面  粘附性、浸润性、相容性，显著提高涂覆镀膜质量。
  牙科领域中对钛制牙移植物和硅酮压模材料表面的预处理，增强其浸润性和相容性。
  医用领域中修复学上移植物和生物材料表面的预处理，增强其浸润性、粘附性和相容性。对医疗器械的消毒和杀菌。
GPC-102 A等离子清洗机技术特征：
  紧凑型台式等离子清洗设备，无射频辐射危害，通过CE/EMC、CE/LVD、ROHS及FCC VOC认证。
  射频（RF）功率无极调节，可根据应用需要自由设置。
  等离子清洗机整体适配与惰性气体如大气、氩气、氮气，活性气体氧气、氦气、氢气或混合气体等工艺气体使用。
  适用于超净间，无需配备其它附件即可使用。
  全套工艺气体管路采用特氟龙（teflon）材质及美国Swagelok高质316不锈钢阀门。
GPC-102 A等离子清洗机具有如下优势：
  具有性能稳定、性价比高、操作简便、使用成本极低、易于维护的特点。
  可对各种几何形状、表面粗糙程度各异的金属、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面进行超清洗和改性。
  完全彻底地清除样品表面的有机污染物。
  无极功率处理、快速方便、清洗效率高。
  绿色环保、不使用化学溶剂、对样品和环境无二次污染。
  在常温条件下进行超清洗，对温敏感样品非破坏性处理。
GPC-102 A（替代 Harrick PDC-32G-2、EQ-PDC-32G等离子清洗机）等离子清洗机规格：
等离子清洗机真空反应舱尺寸：内径4.0英寸（102毫米）， 7.9英寸（200毫米） 深
等离子清洗机真空反应舱材质：纯石英 （99.99%二氧化硅）
等离子清洗机输入功率：150W（最大）
等离子清洗机工作频率：13.56MHz
等离子清洗机射频功率：0W~30W 功率旋钮连续调节
等离子清洗机重量：12公斤（约）
等离子清洗机尺寸：12.3英寸（312毫米）高x 16.8英寸（426毫米）宽 x 12.4英寸（315毫米）深
等离子清洗机配套托盘：纯石英材质 规格